[发明专利]具有投影系统的位置控制的量测工具在审
| 申请号： | 202180066073.9 | 申请日： | 2021-08-24 |
| 公开（公告）号： | CN116420069A | 公开（公告）日： | 2023-07-11 |
| 发明（设计）人： | 汉斯·巴特勒;A·J·登勃夫;M·C·J·巴根;J·A·L·J·瑞马克;R·C·席摩曼 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司;ASML控股股份有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/956 | 分类号： | G01N21/956 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 毕杨 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本文中描述一种量测工具。所述量测工具包括：衬底台(ST)，所述衬底台用于保持衬底(S)；投影系统(PS)，所述投影系统被配置成将束投影在所述衬底的目标部分(TP)上；致动器(PEA)，所述致动器被配置成调整所述投影系统相对于所述衬底台上的所述衬底的位置；传感器，所述传感器被配置成确定所述衬底台的位置；以及一个或更多个处理器，所述一个或更多个处理器被配置成：基于所述衬底台的所述位置，确定所述衬底台相对于参考物的位置误差；和经由所述致动器，控制所述投影系统的位置以补偿所述衬底台的所述位置误差，使得所述束投影在所述衬底的所述目标部分上。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 投影 系统 位置 控制 工具 | ||
【主权项】：
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