[发明专利]校正系统及校正方法在审
| 申请号： | 202180066534.2 | 申请日： | 2021-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN116234623A | 公开（公告）日： | 2023-06-06 |
| 发明（设计）人： | 荒川武士;笹井雄太;田中利夫;黑井圣史;原聡 | 申请（专利权）人： | 大金工业株式会社 |
| 主分类号： | B01D46/42 | 分类号： | B01D46/42 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 王升 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 校正系统包括取得部(11)、存储部(13)以及校正部(14a)，所述取得部(11)取得表示第一捕集效率的信息，所述第一捕集效率为过滤器(30)对第一微粒的捕集效率，所述存储部(13)存储校正数据(X)，所述校正数据(X)用于所述将第一捕集效率校正为第二捕集效率，所述第二捕集效率为所述过滤器(30)对第二微粒的捕集效率，所述校正部(14a)基于所述校正数据(X)将所述取得部(11)所取得的所述第一捕集效率校正为所述第二捕集效率。 | ||
| 搜索关键词： | 校正 系统 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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