[发明专利]热稳定的多层阻隔膜结构在审
| 申请号： | 202180071263.X | 申请日： | 2021-09-09 |
| 公开（公告）号： | CN116323207A | 公开（公告）日： | 2023-06-23 |
| 发明（设计）人： | P·欧克勒;W·洛瓦瑟;P·艾特瑞德格;R·克里斯托弗森 | 申请（专利权）人： | 阿姆科挠性物品北美公司 |
| 主分类号： | B32B27/30 | 分类号： | B32B27/30 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 李勇;吕小羽 |
| 地址： | 美国威*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 披露了一种耐久阻隔膜，其包括具有在(10)与(100)pm之间的厚度的聚合物基底层、无机涂覆层和位于聚合物基底层与无机涂覆层之间的聚合物缓冲层，聚合物缓冲层与无机涂覆层直接接触，其中无机涂覆层包括特征在于在(0.25)与(1.0)pm之间的平均振幅和在(2)与(5)pm之间的波长的波结构。 | ||
| 搜索关键词： | 稳定 多层 阻隔 膜结构 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于阿姆科挠性物品北美公司，未经阿姆科挠性物品北美公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202180071263.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
