[发明专利]使用独立多通道喷头的光刻胶沉积在审
| 申请号： | 202180076016.9 | 申请日： | 2021-11-05 |
| 公开（公告）号： | CN116569107A | 公开（公告）日： | 2023-08-08 |
| 发明（设计）人： | 法扎德·霍什曼德;韦恩·弗兰奇;阿纳塔·苏比玛尼;凯尔文·陈;拉克马尔·C·卡拉塔拉格;马克·约瑟夫·萨利 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;吴启超 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一些实施方式包括在处理腔室中沉积光刻胶至基板上的方法。在一个实施方式中，该方法包含使氧化剂经由喷头中的第一路径流入处理腔室，并且使有机金属经由喷头中的第二路径流入处理腔室。在一个实施方式中，第一路径与第二路径隔离，以便氧化剂与有机金属不会在喷头内混合。在一个实施方式中，该方法进一步包含氧化剂与有机金属在处理腔室中反应以在基板上沉积光刻胶。 | ||
| 搜索关键词： | 使用 独立 通道 喷头 光刻 沉积 | ||
【主权项】：
暂无信息
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