[发明专利]一种源漏非对称的环栅可重构场效应晶体管在审

专利信息
申请号: 202210004745.X 申请日: 2022-01-05
公开(公告)号: CN114300540A 公开(公告)日: 2022-04-08
发明(设计)人: 孙亚宾;张芮;石艳玲;李小进;刘赟 申请(专利权)人: 华东师范大学
主分类号: H01L29/78 分类号: H01L29/78;H01L29/423;H01L29/10;H01L29/06
代理公司: 上海蓝迪专利商标事务所(普通合伙) 31215 代理人: 徐筱梅;张翔
地址: 200241 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种源漏非对称的环栅可重构场效应晶体管,包括垂直排列的纳米片或纳米线沟道,包裹在沟道外、位于栅极及栅极隔离下方的栅极氧化物,分别对称设置在栅极氧化物外侧的控制栅极和极性栅极,包裹在沟道外用于隔离控制栅极与极性栅极的栅极隔离以及设于沟道左右两端、包裹在沟道外的边墙,设置在沟道一端的漏和沟道另一端向源边墙内部延伸的源,设置在底部的衬底。本发明与现有源漏对称型器件相比,向源边墙内部延伸的源增加了源端与沟道的接触面积,载流子线隧穿概率增大,开态电流提升。在关断时,漏端结构与源漏对称型器件漏结构非交叠区域相同,关态电流基本保持不变,故具有更为理想的电流开关比,逻辑响应更快。
搜索关键词: 一种 源漏非 对称 环栅可重构 场效应 晶体管
【主权项】:
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