[发明专利]一种图案化金属层表面抛光方法有效
| 申请号： | 202210008223.7 | 申请日： | 2022-01-06 |
| 公开（公告）号： | CN114273992B | 公开（公告）日： | 2022-11-01 |
| 发明（设计）人： | 李晓宇;张志红;胡艺缤;高春燕;王梦佳;毛亮海 | 申请（专利权）人： | 西南应用磁学研究所（中国电子科技集团公司第九研究所） |
| 主分类号： | B24B1/00 | 分类号： | B24B1/00;B81C1/00 |
| 代理公司： | 绵阳市博图知识产权代理事务所(普通合伙) 51235 | 代理人： | 黎仲 |
| 地址： | 621000 四*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种图案化金属层表面抛光方法，属于微波元器件技术领域，其步骤包括：先将光敏型聚酰亚胺旋涂在硅片上图案化金属层表面，填充并覆盖整个Au图案化金属层；升温固化聚酰亚胺层；在聚酰亚胺层上表面涂覆一层光刻胶层；对光刻胶层进行刻蚀抛光，将光刻胶层全部刻蚀，得到表面平整的聚酰亚胺层；对聚酰亚胺层继续进行刻蚀，使漏出部分厚度较高的图案化金属层图案；对表面凸出的金属层图案进行磨抛，至金属层图案与聚酰亚胺上表面平齐；去掉金属层图案间隙填充的聚酰亚胺；本发明可以明显提高硅基MEMS环行器/隔离器键合之前的Au微波电路图案的平整度和粗糙度，增加键合工艺强度，提高器件的结构强度，提高每片晶圆的良品率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 图案 金属 表面 抛光 方法 | ||
【主权项】：
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