[发明专利]管理装置、数据处理方法、记录介质、半导体器件的制造方法及处理系统在审
| 申请号： | 202210014527.4 | 申请日： | 2022-01-06 |
| 公开（公告）号： | CN115113995A | 公开（公告）日： | 2022-09-27 |
| 发明（设计）人： | 坂元优介;浅井一秀;屋敷佳代子;上田修;袁帅 | 申请（专利权）人： | 株式会社国际电气 |
| 主分类号： | G06F9/48 | 分类号： | G06F9/48;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 陈伟;刘伟志 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供一种能够远程监视在多个工厂运行的半导体制造装置群的管理装置、数据处理方法、记录介质、半导体器件的制造方法及处理系统。具备：第1存储部，其存储来自终端装置的请求数据；第2存储部，其存储来自处理装置的信息；和控制部，其构成为能够基于所接收到的请求数据对第1存储部及第2存储部中的某一方进行检索，使用第1存储部及第2存储部中的至少某一方获取与请求数据的内容对应的处理装置的信息。 | ||
| 搜索关键词： | 管理 装置 数据处理 方法 记录 介质 半导体器件 制造 处理 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
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