[发明专利]光固化抗菌二氧化硅涂层的制备方法及其应用有效
| 申请号： | 202210038487.7 | 申请日： | 2022-01-13 |
| 公开（公告）号： | CN114369960B | 公开（公告）日： | 2023-08-29 |
| 发明（设计）人： | 王栋;赵青华;陈卓;梅涛;宋银红;尤海宁;刘轲 | 申请（专利权）人： | 武汉纺织大学 |
| 主分类号： | D06N3/14 | 分类号： | D06N3/14;D06N3/00 |
| 代理公司： | 武汉卓越志诚知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 42266 | 代理人： | 戴宝松 |
| 地址： | 430200 湖*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种光固化抗菌二氧化硅涂层的制备方法及其应用，包括如下步骤：将二氧化硅加入硅烷偶联剂混合液中，经超声振动、抽滤、洗涤后，再加入到8wt％‑12wt％的聚六亚甲基胍盐酸盐的水溶液中反应，得到抗菌二氧化硅；将得到的抗菌二氧化硅加入到乙醇分散液中，并向其中加入含巯基的硅烷偶联剂，加热反应后，得到光敏抗菌二氧化硅；将得到的光敏抗菌二氧化硅与脂肪族聚氨酯丙烯酸酯、二缩三丙二醇二丙烯酯及光起始剂进行高速搅拌混合，经光照得到光固化抗菌二氧化硅涂层。本发明通过控制介孔二氧化硅上偶联的抗菌成分的含量，从而控制介孔二氧化硅上剩余的反应位点及位阻，使制备的光固化抗菌二氧化硅涂层的抗菌性强，损失率低。 | ||
| 搜索关键词： | 光固化 抗菌 二氧化硅 涂层 制备 方法 及其 应用 | ||
【主权项】：
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