[发明专利]低温负性黑色光刻胶组合物及其黑色矩阵在审
| 申请号： | 202210052881.6 | 申请日： | 2022-01-18 |
| 公开（公告）号： | CN114755890A | 公开（公告）日： | 2022-07-15 |
| 发明（设计）人： | 陈旺;康威;康凯 | 申请（专利权）人： | 深圳迪道微电子科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/038 | 分类号： | G03F7/038;G03F7/027;G03F7/004;G02F1/1335 |
| 代理公司： | 南京苏创专利代理事务所(普通合伙) 32273 | 代理人： | 王华 |
| 地址： | 518000 广东省广州市光明区凤凰街道塘尾*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种低温负性黑色光刻胶组合物及其黑色矩阵，包括有机溶剂和溶解在有机溶剂中的溶质，溶质占组合物总重量的15‑60%，其中溶质包括：含有双键和羟基的光固化树脂、碱溶性丙烯酸酯类光聚合单体、光引发剂、着色剂和低温封闭型异氰酸酯交联剂。本发明的光刻胶组合物通过加入含有双键和羟基的光固化树脂和碱溶性丙烯酸酯类光聚合单体，由光引发剂引发聚合，提升了光刻胶的粘着性；并添加低温封闭型异氰酸酯交联剂，使得光固化树脂和光聚合单体中的羟基可以在较低温度下进行充分交联聚合，进一步提升固化膜的强度和稳定性，减少对滤色器的影响，更适合OLED和基于量子点的显示器件的使用。 | ||
| 搜索关键词： | 低温 黑色 光刻 组合 及其 矩阵 | ||
【主权项】：
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