[发明专利]一种溅射后氧化铟锡靶材的再生方法有效
| 申请号： | 202210053404.1 | 申请日： | 2022-01-18 |
| 公开（公告）号： | CN114477992B | 公开（公告）日： | 2023-04-28 |
| 发明（设计）人： | 姚力军;潘杰;周友平;曹欢欢 | 申请（专利权）人： | 宁波江丰热等静压技术有限公司 |
| 主分类号： | C04B35/453 | 分类号： | C04B35/453;C04B35/622;C04B35/645;C23C14/34 |
| 代理公司： | 北京远智汇知识产权代理有限公司 11659 | 代理人： | 韩承志 |
| 地址： | 315400 浙*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种溅射后氧化铟锡靶材的再生方法，所述再生方法包括如下步骤：(1)对溅射后氧化铟锡靶材的溅射面依次进行抛光处理和槽加工，之后进行装粉，得到中间件；(2)对步骤(1)得到的中间件依次进行冷等静压、包套处理和热等静压处理，得到再生氧化铟锡靶材。本发明提供的再生方法，通过采用特定的处理过程，采用特定的机加工和等静压处理过程的设计，实现了使用后氧化铟锡的高效回收利用，制备所得氧化铟锡靶材具有良好的性能，致密性能高，晶粒小，电阻率低，采用制备所得靶材进行镀膜后镀膜的均匀性显著提升。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 溅射 氧化 铟锡靶材 再生 方法 | ||
【主权项】：
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