[发明专利]一种光刻图形的优化方法及装置有效
| 申请号： | 202210071674.5 | 申请日： | 2022-01-21 |
| 公开（公告）号： | CN114326330B | 公开（公告）日： | 2023-09-26 |
| 发明（设计）人： | 吴华标;叶甜春;朱纪军;罗军;李彬鸿;赵杰 | 申请（专利权）人： | 锐立平芯微电子（广州）有限责任公司;广东省大湾区集成电路与系统应用研究院 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F1/36 |
| 代理公司： | 无锡市汇诚永信专利代理事务所(普通合伙) 32260 | 代理人： | 苗雨 |
| 地址： | 510000 广东省广州市*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请实施例公开了一种光刻图形的优化方法及装置，该方法用于集成电路器件；具体包括：获取光刻图形的样本数据，样本数据包括所述目标图形区的第一尺寸信息以及所述至少两个材料层的材料信息；基于样本数据生成的第一光罩图形对光刻胶图层进行光刻，生成第一目标图形，第一目标图形的图形尺寸误差大于误差阈值；基于第一目标图形的图形尺寸误差进行光学邻近OPC校正，获得矫正后的第二光罩图形。本方案可以对图形尺寸误差超过阈值的第一光罩图形进行图形优化，获得图形尺寸误差更小的第二光罩图形，不仅提高了光刻的精度，避免出现光刻胶残留，且提高了后续的工艺窗口，提高产品的良品率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 图形 优化 方法 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于锐立平芯微电子（广州）有限责任公司;广东省大湾区集成电路与系统应用研究院，未经锐立平芯微电子（广州）有限责任公司;广东省大湾区集成电路与系统应用研究院许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202210071674.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
