[发明专利]一种抛光液及其制备方法和应用在审
| 申请号： | 202210101644.4 | 申请日： | 2022-01-27 |
| 公开（公告）号： | CN114410226A | 公开（公告）日： | 2022-04-29 |
| 发明（设计）人： | 汪为磊;刘卫丽;宋志棠 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所;上海新安纳电子科技有限公司;浙江新创纳电子科技有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;C09K3/14 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人： | 金彦;许亦琳 |
| 地址： | 200050 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种抛光液及其制备方法和应用。所述抛光液包括研磨剂、高锰酸钠、离子强度调节剂和水，进一步，还包括选自分散剂、防沉剂和pH调节剂中的至少一种。所述抛光液的制备方法包括如下步骤：将所述抛光液中的各组分进行混合，得到所述抛光液。所述抛光液在碳化硅抛光领域中的用途。本发明的抛光液通过选择研磨剂、高锰酸钠和离子强度调节剂并将其合理组合，使得抛光液的抛光质量、抛光速率获得很大提升，尤其适用于难加工的含硅表面的超精密光学器件或半导体功率器件的表面抛光，是理想的半导体化合物晶圆制造的亚纳米级光洁度的抛光液材料。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 抛光 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
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