[发明专利]单层多晶硅电子抹除式可复写只读存储器在审

专利信息
申请号: 202210113253.4 申请日: 2016-10-21
公开(公告)号: CN114551452A 公开(公告)日: 2022-05-27
发明(设计)人: 李志浩;陈自平 申请(专利权)人: 联华电子股份有限公司
主分类号: H01L27/11517 分类号: H01L27/11517;H01L27/11521
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 王锐
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开一种单层多晶硅电子抹除式可复写只读存储器,包含有一源极、一漏极、一介电层以及一电极层。源极以及漏极位于一基底中,其中源极以及漏极具有一第一导电型。介电层设置于基底上且位于源极以及漏极之间,其中介电层包含第一介电层,第一介电层具有分隔的两个穿隧介电部分,且两个穿隧介电部分的厚度薄于第一介电层的其他部分的厚度。电极层设置于介电层上,其中电极层包含一第一电极设置于第一介电层上,因而第一电极为一浮置栅极。
搜索关键词: 单层 多晶 电子 复写 只读存储器
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于联华电子股份有限公司,未经联华电子股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202210113253.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top