[发明专利]基板处理装置、半导体装置的制造方法、基板处理方法和记录介质

摘要

本发明提供基板处理装置、半导体装置的制造方法、基板处理方法和记录介质。本发明的基板处理装置具有：晶圆盒，其将多个基板在预定的排列方向上排列并保持；内管，其围绕晶圆盒来设置，并在与基板的排列方向正交的方向上形成有进行排气的排气孔；混合部，其将在内管内的温度下会相互反应的用于基板处理的多种气体预先混合而生成混合气体；和喷嘴，其与内管的内壁分离开设置，从沿着基板的排列方向形成的多个吐出孔向内管内吐出由混合部供给的混合气体；吐出孔的吐出方向不是朝向晶圆盒而是朝向内管的内壁。