[发明专利]非晶态金属薄带、非晶态金属薄带的制造方法及磁芯在审
| 申请号： | 202210142102.1 | 申请日： | 2022-02-16 |
| 公开（公告）号： | CN114974783A | 公开（公告）日： | 2022-08-30 |
| 发明（设计）人： | 中村敦 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | H01F1/153 | 分类号： | H01F1/153;H01F3/04;H01F41/02 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人： | 赵曦 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
本发明提供非晶态金属薄带、非晶态金属薄带的制造方法及磁芯，当在磁通密度较高的条件下进行测定时，铁损和励磁功率也较低。一种非晶态金属薄带，其特征在于，具有多个由排列成列状的多个激光照射痕构成的激光照射痕列，使相互相邻的所述激光照射痕列彼此的间隔为d1，使所述激光照射痕列中的所述激光照射痕彼此的间隔为d2，使所述激光照射痕的直径为d3，在使所述激光照射痕的数量密度D为(1/d1)×(1/d2)时，所述激光照射痕的数量密度D为0.05个/mm |
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| 搜索关键词： | 晶态 金属 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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