[发明专利]一种高功率脉冲磁控溅射装置在审
| 申请号： | 202210172569.0 | 申请日： | 2022-02-24 |
| 公开（公告）号： | CN114517287A | 公开（公告）日： | 2022-05-20 |
| 发明（设计）人： | 周焱文 | 申请（专利权）人： | 武汉普迪真空科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 武汉天领众智专利代理事务所(普通合伙) 42300 | 代理人： | 林琳 |
| 地址： | 430000 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种高功率脉冲磁控溅射装置，包括机柜和设置于机柜内部的脉冲磁控溅射装置，所述脉冲磁控溅射装置包括与机柜相连的基座、与基座相连的电极和套设在电极外部的连接组件，具体涉及脉冲磁控溅射装置技术领域。该高功率脉冲磁控溅射装置，通过在连接套的内部设置卡合组件和传动组件，在安装或者拆卸电极时，从而使卡合头在电极轴向的方向抬升或降低，当卡合头抬升时。卡合片会与台阶相接触，由于卡合片通过铰链与片座铰接，且卡合片有一定角度，故卡合片会向外扩展开并卡住台阶，同理，当卡合头下降时，卡合片会与台阶脱离，可快速将电极从基座取下，有效提升了脉冲磁控溅射装置的工作效率和产量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 功率 脉冲 磁控溅射 装置 | ||
【主权项】：
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