[发明专利]光罩及其设计方法

摘要

本发明提供一种光罩的设计方法，提供具有第一透明基底的第一光罩，第一透明基底的表面上形成有不透光的图形结构；提供第一衬底，衬底上形成有第一、二结构区，第二结构区的图形密度小于第一结构区，之后形成覆盖第一、二结构区的光刻胶层，检测得到光刻胶层的高度差；提供第二光罩，第一光罩具有第二透明基底，刻蚀第二透明基底，之后在第二光罩的表面形成不透光的图形结构，使得曝光机台采用第二光罩对光刻胶层曝光时，分别对应第一、二结构区上焦点高度的差值为高度差。本发明实现不同位置都在最佳曝光位置，保证了图形的最佳曝光焦距，解决因前层图形疏密导致的当层光刻填充材料平坦度较差而引起的图形离焦问题，提高产品的良率。