[发明专利]一种抗光幕、设备以及制备方法在审
申请号: | 202210225569.2 | 申请日: | 2022-03-09 |
公开(公告)号: | CN114624949A | 公开(公告)日: | 2022-06-14 |
发明(设计)人: | 刘俊 | 申请(专利权)人: | 广州西岛电子科技有限公司 |
主分类号: | G03B21/60 | 分类号: | G03B21/60 |
代理公司: | 北京中济纬天专利代理有限公司 11429 | 代理人: | 陈友 |
地址: | 510000 广东省广州*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明提供了一种抗光幕、设备以及制备方法,包括:基材,采用PET材料制成,呈透明状;微结构层,设置在基材一侧,所述微结构层的背离所述基材的一侧设置有微结构,微结构由多个第一锯齿状结构组成,多个第一锯齿状结构上下排列,每个第一锯齿状结构沿着水平方向延伸;反光层,设置在微结构层的背离所述基材一侧;第一吸光层,设置在基材的背离所述微结构层一侧;不同的第一锯齿状结构的形状和/或尺寸至少部分地不同,和/或,每个第一锯齿状结构沿着其延伸方向不同位置处的形状和/或尺寸至少部分地不同。该抗光幕的微结构的形状和尺寸不同,使抗光幕的表面产生漫反射,进而能够避免出现反光,提高显示效果。 | ||
搜索关键词: | 一种 抗光幕 设备 以及 制备 方法 | ||
【主权项】:
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