[发明专利]直写光刻设备及其的分区曝光方法及装置在审
| 申请号： | 202210242537.3 | 申请日： | 2022-03-11 |
| 公开（公告）号： | CN114721228A | 公开（公告）日： | 2022-07-08 |
| 发明（设计）人： | 程建高;董帅;赵美云;蔡健 | 申请（专利权）人： | 合肥芯碁微电子装备股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京景闻知识产权代理有限公司 11742 | 代理人： | 卢春燕 |
| 地址： | 230088 安徽省*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明提出一种直写光刻设备及其的分区曝光方法及装置，方法包括：确定PCB板上每个原始分区对应的对位靶点的坐标；根据对位靶点的坐标确定与对位靶点对应的邻域对位点的坐标；根据对位靶点的坐标及邻域对位点的坐标重新确定PCB板的分区及与分区对应的变换模式；根据分区及变换模式确定所述分区的映射矩阵；根据映射矩阵确定目标曝光坐标，并根据目标曝光坐标对PCB板进行曝光。本发明通过采用相同的变换模式对PCB板的分区进行变换，并根据分区及变换模式确定分区的映射矩阵，根据映射矩阵确定目标曝光坐标，实现对PCB板的曝光，从而，避免在每个分区采用各自变换参数进行变换，导致分区之间出现错位及白边问题，提高了产品质量。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 及其 分区 曝光 方法 装置 | ||
【主权项】：
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