[发明专利]功率半导体器件及其应用在审

专利信息
申请号: 202210258377.1 申请日: 2022-03-16
公开(公告)号: CN114823907A 公开(公告)日: 2022-07-29
发明(设计)人: 陈昭铭;夏经华;张安平 申请(专利权)人: 松山湖材料实验室;东莞理工学院
主分类号: H01L29/78 分类号: H01L29/78;H01L29/06
代理公司: 华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人: 刘珍
地址: 523000 广东*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种功率半导体器件及其应用,功率半导体器件包括:基体,基体内设有第一金属区、源区、栅氧介质层和栅电极区,栅氧介质层包绕栅电极区,源区位于第一金属区与栅氧介质层之间且源区的侧壁分别与第一金属区和栅氧介质层接触,第一金属区、源区、栅氧介质层与栅电极区的表面与基体的一侧表面平齐,基体和源区具有同一导电类型,基体的材料的功函数小于第一金属区的材料的功函数;绝缘介质层,绝缘介质层设置在栅氧介质层、栅电极区以及源区上。上述功率半导体器件结构中,第一金属区与基体间形成了肖特基体二极管,避免了双极退化现象,还可以耗尽栅电极区的漂移区,使半导体器件成为常闭型器件,减少半导体器件的漏电流。
搜索关键词: 功率 半导体器件 及其 应用
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于松山湖材料实验室;东莞理工学院,未经松山湖材料实验室;东莞理工学院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202210258377.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top