[发明专利]提高反应腔流场稳定性的外延托盘及使用方法有效

专利信息
申请号: 202210274355.4 申请日: 2022-03-21
公开(公告)号: CN114855148B 公开(公告)日: 2023-05-16
发明(设计)人: 陈张笑雄;茅艳琳;陆香花;龚逸品;李鹏 申请(专利权)人: 华灿光电(苏州)有限公司
主分类号: C23C16/458 分类号: C23C16/458;C30B25/12
代理公司: 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 代理人: 吕耀萍
地址: 215600 江苏省苏*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 本公开提供了一种提高反应腔流场稳定性的外延托盘及使用方法,属于外延生长技术领域。使外延托盘呈柱状且包括同轴相连的衬底放置柱与直径小于衬底放置柱的支撑柱。衬底放置柱的侧壁具有多个沿衬底放置柱的周向等距离间隔分布的缓冲凹槽,每个缓冲凹槽在第一表面所在平面上的投影均包括气流过渡弧线与气流缓冲弧线,气流过渡弧线的半径与弧长分别小于气流缓冲弧线的半径与弧长,气流缓冲弧线的半径小于衬底放置柱的弧长。配合支撑柱的侧壁的多个导向斜槽。导出大量携带有副产物和未反应完成的前驱体反应物的气流。反应腔边缘的副产物沉积的情况的缓解以及乱流的减少,均可提高反应腔内流场的稳定性。
搜索关键词: 提高 反应 腔流场 稳定性 外延 托盘 使用方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华灿光电(苏州)有限公司,未经华灿光电(苏州)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202210274355.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top