[发明专利]图像传感器及其制作方法在审

专利信息
申请号: 202210292216.4 申请日: 2022-03-24
公开(公告)号: CN114388548A 公开(公告)日: 2022-04-22
发明(设计)人: 都智;马忠祥;龚柏铧;谢荣源 申请(专利权)人: 晶芯成(北京)科技有限公司;合肥晶合集成电路股份有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 曹廷廷
地址: 100176 北京市大兴区北京经济技术开*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供一种图像传感器及其制作方法,制作方法包括:提供基底,所述基底上方依次形成有像素单元和覆盖所述像素单元的层间介质层,所述层间介质层的表面形成有金属层,所述金属层在所述基底上的投影与所述像素单元不重合;形成覆盖所述层间介质层和所述金属层的保护层;刻蚀所述保护层和所述层间介质层,形成位于所述像素单元上方的沟槽。沟槽位于像素单元的正上方,正面光线由于像素单元上方的膜层厚度减薄,使感光强度增加,让更多光线进入像素单元,即光透过率增加,提高了图像传感器的感光强度。
搜索关键词: 图像传感器 及其 制作方法
【主权项】:
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