[发明专利]一种连续式ALD镀膜设备的腔体结构

摘要

本发明提供了一种连续式ALD镀膜设备的腔体结构，涉及原子层沉积领域。其中，这种腔体结构包含箱体组件和密封组件。箱体组件包括依次连接的加热腔体、连接腔体和冷却腔体，以及配置于连接腔体内的镀膜腔体。所述箱体组件还包括配置于所述连接腔体的第一检修门；密封组件包括配置于箱体组件的六个插板门。第一个插板门和第二个插板门分别用以连通镀膜腔室和连接腔室。第三个插板门用以连通加热腔室和连接腔室。第四个插板门用以连通连接腔室和冷却腔室。第五个插板门用以连通加热腔室和加热腔体的外部。第六个插板门用以连通冷却腔室和冷却腔体的外部。通过六个插板门来密封大大的缩短腔体结构的长度，减小占地面积。