[发明专利]用于平底水钻生产的抛光机在审
申请号: | 202210298829.9 | 申请日: | 2022-03-25 |
公开(公告)号: | CN114670107A | 公开(公告)日: | 2022-06-28 |
发明(设计)人: | 周志炎;叶卫 | 申请(专利权)人: | 湖北宇星水钻饰品有限公司 |
主分类号: | B24B29/02 | 分类号: | B24B29/02;B24B27/00;B24B41/06;B24B41/02;B24B41/00 |
代理公司: | 武汉惠创知识产权代理事务所(普通合伙) 42243 | 代理人: | 吴平兰 |
地址: | 435500 湖*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明公开了一种用于平底水钻生产的抛光机,属于水钻加工技术领域。包括机架、两个夹具平转结构和两条抛光生产线,两条抛光生产线反向设置且通过两个夹具平转结构构成环形,抛光生产线包括上粉工位、上料工位、磨抛工位、加热工位和卸钻工位;夹具的夹具针在磨抛工位进行60°分度旋转;磨抛工位包括沿夹具的输送方向依次设置的大刻面粗磨工位、大刻面细磨工位、大刻面第一抛光工位、大刻面第二抛光工位、小刻面磨削工位和小刻面抛光工位;在大刻面粗磨工位、大刻面细磨工位、大刻面第一抛光工位和大刻面第二抛光工位处,夹具的进给角度为46±0.5°;在小刻面磨削工位和小刻面抛光工位处,夹具的进给角度为51.7±0.5°。 | ||
搜索关键词: | 用于 平底 水钻 生产 抛光机 | ||
【主权项】:
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