[发明专利]一种柔性卷对卷铜铟镓硒蒸发羽流控制结构

摘要

本发明涉及一种柔性卷对卷铜铟镓硒蒸发羽流控制结构，解决柔性卷对卷铜铟镓硒蒸镀中蒸发羽流的稳定控制问题。本装置包括真空腔，真空腔内设置放卷轴和收卷轴，放卷轴和收卷轴之间沿输送辊输送基底，所述基底经过若干蒸镀区，蒸镀区设置在相邻输送辊之间，所述蒸镀区在基底下方设有导流罩，所述导流罩顶面开口，导流罩下部设置硒源及金属源，所述蒸镀区在基底的上方设有上罩，所述上罩与导流罩在基底左右两侧扣合封闭，所述导流罩顶面与基底底面在前后两侧留有溢流间隙，相邻蒸镀区的导流罩前后相邻侧壁之间设有抽吸间隙。本发明通过蒸汽喷口的喷出角度以及导流罩的导流设置，使羽流蒸发‑镀膜‑流散‑抽出的有序运行，提高羽流控制的稳定性。