[发明专利]一种半导体器件的制备方法及半导体器件在审

专利信息
申请号: 202210325853.7 申请日: 2022-03-29
公开(公告)号: CN114725118A 公开(公告)日: 2022-07-08
发明(设计)人: 张鹏飞;陈金星;李贝贝 申请(专利权)人: 长江存储科技有限责任公司
主分类号: H01L27/11524 分类号: H01L27/11524;H01L27/11551;H01L27/1157;H01L27/11578
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 吕姝娟
地址: 430205 湖北省武*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 本公开提供一种半导体器件的制备方法及半导体器件,包括在衬底上形成第一堆叠层,所述第一堆叠层包括位于所述第一堆叠层两端的第一连接区堆叠层、以及位于所述第一连接区堆叠层之间的第二连接区堆叠层。然后形成覆盖所述第一连接区堆叠层和所述第二连接区堆叠层的保护层,最后对保护层未覆盖的所述第一堆叠层进行刻蚀。其中,所述第一连接区堆叠层在第二方向的宽度大于所述第二连接区堆叠层在第二方向的宽度,因此不会导致第一连接区堆叠层和第一连接区堆叠层附近的第二连接区堆叠层上的保护层偏薄,由此可以减少第一连接区堆叠层和附近第二连接区堆叠层上的保护层被侧掏,进而使保护层能够有效保护第一连接区堆叠层和第二连接区堆叠层。
搜索关键词: 一种 半导体器件 制备 方法
【主权项】:
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