[发明专利]一种纳米晶TaNbTi中熵合金涂层及其制备方法在审
| 申请号： | 202210336453.6 | 申请日： | 2022-03-31 |
| 公开（公告）号： | CN114592170A | 公开（公告）日： | 2022-06-07 |
| 发明（设计）人： | 龙斌;鲁盛会;秦博;王亚强;孙军;李星;刘刚;张金钰 | 申请（专利权）人： | 中国原子能科学研究院;西安交通大学 |
| 主分类号： | C23C14/18 | 分类号： | C23C14/18;C23C14/35 |
| 代理公司： | 西安通大专利代理有限责任公司 61200 | 代理人： | 范巍 |
| 地址： | 1024*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种纳米晶TaNbTi中熵合金涂层及其制备方法，其组成元素Ta、Nb、Ti为等原子比。在单面抛光的单晶硅基体上采用直流磁控溅射的方法制备TaNbTi难熔中熵合金涂层，靶材为TaNbTi单一合金靶，采用直流电源，功率为200W，工作气压设定值为0.3Pa，沉积温度为室温，基盘转速为15r/min。本发明通过直流磁控溅射技术制备的TaNbTi难熔中熵合金涂层，微观组织致密均匀，缺陷少，内部合金元素分布均匀，截面晶粒为柱状纳米晶。本发明的TaNbTi难熔中熵合金涂层具有优异的力学性能和抗氧化性能。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 纳米 tanbti 合金 涂层 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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