[发明专利]一种纳米晶NbMoTaWTi难熔高熵合金涂层及其制备方法在审
| 申请号： | 202210337478.8 | 申请日： | 2022-03-31 |
| 公开（公告）号： | CN114672778A | 公开（公告）日： | 2022-06-28 |
| 发明（设计）人： | 王亚强;孙军;李彤;龙斌;刘刚;张金钰;鲁盛会;秦博 | 申请（专利权）人： | 西安交通大学;中国原子能科学研究院 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/16;C22C30/00 |
| 代理公司： | 西安通大专利代理有限责任公司 61200 | 代理人： | 范巍 |
| 地址： | 710049 *** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种纳米晶NbMoTaWTi难熔高熵合金涂层及其制备方法，Ti的原子百分数为2.6‑20.7at.％，其余为等原子比的NbMoTaW。在单面抛光的单晶硅基体上采用磁控溅射共溅射的方法制备NbMoTaWTi难熔高熵合金涂层，其中NbMoTaW合金靶采用直流电源，Ti靶采用射频电源；Ti含量的变化通过调控Ti靶的沉积功率来实现，不易造成靶材元素的团聚和反溅射现象，保证涂层微观组织均匀。沉积结束后样品在高真空沉积室中充分冷却至室温后取出，所得涂层样品成分均匀、组织致密。合金化Ti元素的添加，在保持良好力学性能的前提下，有效改善了NbMoTaW难熔高熵合金涂层的耐液态铅铋合金溶液腐蚀性能。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 纳米 nbmotawti 难熔高熵 合金 涂层 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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