[发明专利]护膜、曝光方法及平板显示器用屏的制造方法在审
| 申请号： | 202210376691.X | 申请日： | 2022-04-12 |
| 公开（公告）号： | CN115202148A | 公开（公告）日： | 2022-10-18 |
| 发明（设计）人： | 関原一敏 | 申请（专利权）人： | 信越化学工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F1/48 | 分类号： | G03F1/48 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 宋兴;臧建明 |
| 地址： | 日本东京千代田区丸之内一*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种护膜、曝光方法及平板显示器用屏的制造方法，此护膜的至少一条边的边长超过1000mm，且当安装于光掩模的护膜高速移动时，护膜膜片的摇晃量小。本发明的护膜包含至少一条边长超过1000mm的护膜框、及粘接于其一个框状面的护膜膜片而构成，且所述护膜，其中，对于护膜膜片，在与相互平行且为线对称的一对护膜框边平行的方向赋予有1％以上且2.5％以下的拉伸应变。 | ||
| 搜索关键词： | 护膜 曝光 方法 平板 显示 器用 制造 | ||
【主权项】：
暂无信息
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- 专利分类
G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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