[发明专利]一种基于UVM的高精度时戳验证方法在审
申请号: | 202210384323.X | 申请日: | 2022-04-13 |
公开(公告)号: | CN114745071A | 公开(公告)日: | 2022-07-12 |
发明(设计)人: | 袁阳 | 申请(专利权)人: | 芯河半导体科技(无锡)有限公司 |
主分类号: | H04J3/06 | 分类号: | H04J3/06 |
代理公司: | 北京神州信德知识产权代理事务所(普通合伙) 11814 | 代理人: | 朱俊杰 |
地址: | 214135 江苏省无锡市新吴区菱*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提出了一种基于UVM的高精度时戳验证方法,通过构建高精度时戳验证方法,实现了兼容1588各类节点(OC/BC/TC)的各种时戳报文类型的精度验证,验证时戳精度可达ns级,可覆盖验证绝大多数相关产品的此类功能;模块化的组件设计方便移植,架构清晰,拥有较高的移植性和重用性,大大提高了验证工作效率。 | ||
搜索关键词: | 一种 基于 uvm 高精度 验证 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于芯河半导体科技(无锡)有限公司,未经芯河半导体科技(无锡)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202210384323.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。