[发明专利]一种等离子体增强化学气相沉积设备

摘要

本发明公开了一种等离子体增强化学气相沉积设备，涉及半导体薄膜制备技术领域，包括反应室、可控加热模块、马弗、晶舟和气体输送管道，可控加热模块用于控制反应室内部的反应温度，马弗设置于反应室内，马弗的内侧为均匀热区，晶舟设置于均匀热区内，晶舟包括若干连接电极的石墨舟片，舟片上放置有晶圆衬底；气体输送管道用于向反应室内注入反应气体，反应室还通过抽气管道连接真空泵；本发明中的等离子体增强化学气相沉积设备，具有热场均匀性和反应气体有效成分均匀性高的特征，产品一致性好。另外，产生等离子体的射频电极为三相，不会产生次生相位移动，无需支付额外的惩罚性电费。该设备生产效率高，成本低，产品性价比高。