[发明专利]一种后修饰碳硼烷的共价有机框架材料的设计合成及其在锂硫电池隔膜中的应用有效
| 申请号： | 202210388858.4 | 申请日： | 2022-04-13 |
| 公开（公告）号： | CN114709557B | 公开（公告）日： | 2023-10-27 |
| 发明（设计）人： | 于海洲;李明明 | 申请（专利权）人： | 南京工业大学 |
| 主分类号： | H01M50/409 | 分类号： | H01M50/409;H01M50/414;H01M50/403;H01M10/052 |
| 代理公司： | 南京知识律师事务所 32207 | 代理人： | 吴频梅 |
| 地址： | 210000 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明通过一种合成后修饰(PSM)策略，通过交叉偶联反应来功能化共价有机框架材料，在COFs中有效地安装了功能化结构—碳硼烷，同时保留了COFs的结晶度和孔隙度。应用在锂硫电池中时，使用的修饰隔膜选用的是以聚合物隔膜为主体，在聚合物隔膜的一侧涂布一层修饰层，所述修饰层为一种后修饰含碳硼烷的COFs材料。由于碳硼烷的高度缺电子结构，为吸附多硫化物(LiPSs)提供了极丰富的极性位点，通过碳硼烷的功能化改性，产生具有显著增强扩散锂离子的多孔结构并吸收多硫化物。独特的后修饰碳硼烷共价有机框架提高了锂硫电池的充放电比容量和循环稳定性，使其具有快速反应动力学和出色的电化学稳定性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 修饰 碳硼烷 共价 有机 框架 材料 设计 合成 及其 电池 隔膜 中的 应用 | ||
【主权项】：
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