[发明专利]一种热分解薄膜制备装置有效
申请号: | 202210391449.X | 申请日: | 2022-04-14 |
公开(公告)号: | CN114990522B | 公开(公告)日: | 2023-08-08 |
发明(设计)人: | 梁昌兴;陈远豪;黄俊宇;龚恒翔;肖黎 | 申请(专利权)人: | 重庆理工大学 |
主分类号: | C23C16/30 | 分类号: | C23C16/30;C23C16/455;C23C16/46 |
代理公司: | 重庆市诺兴专利代理事务所(普通合伙) 50239 | 代理人: | 肖永钱 |
地址: | 400030 *** | 国省代码: | 重庆;50 |
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摘要: | 本发明公开了一种热分解薄膜制备装置,包括升降台和反应室,所述升降台上设喷雾模块,所述反应室内设加热模块,衬底置于该加热模块上;所述喷雾模块包括设于所述升降台上的安装底板,该安装底板上设缓冲腔,所述缓冲腔的进气口与至少一组雾化单元连通,所述缓冲腔的出气口与伸缩管连通,该伸缩管通过连接管与喷嘴连接,所述伸缩管、连接管和喷嘴伸入所述反应室内,该喷嘴位于所述衬底上方位置,所述安装底板朝向所述反应室的一侧设有向外延伸的连接支架,所述喷嘴转动连接在所述连接支架上。本装置既适合透明导电氧化物薄膜材料(单元、多元和多层膜结构),也可用于其他适合用热分解方法制备的薄膜材料制备。 | ||
搜索关键词: | 一种 分解 薄膜 制备 装置 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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