[发明专利]阵列基板及其制作方法、显示面板在审
| 申请号： | 202210391961.4 | 申请日： | 2022-04-14 |
| 公开（公告）号： | CN114937701A | 公开（公告）日： | 2022-08-23 |
| 发明（设计）人： | 马倩;陆炜 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | H01L29/786 | 分类号： | H01L29/786;H01L21/77;H01L21/34 |
| 代理公司： | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人： | 孟霞 |
| 地址： | 518132 广东省深*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供一种阵列基板及其制作方法、显示面板，该阵列基板包括位于基板上的氧化物半导体层、栅极绝缘层、栅极、层间绝缘层以及源漏极金属层；其中，氧化物半导体层包括沟道区和位于沟道区两侧的导体区，栅极绝缘层分别与沟道区两侧的导体区存在交叠，且栅极对应氧化物半导体层的部分在基板上的正投影落入沟道区在基板上的正投影的范围。本发明基于载流子受到高温成膜的影响会扩散至栅极绝缘层的下方，将层间绝缘层的制作分为两次，在完成第一次层间绝缘层制作后，采用蚀刻工艺形成尺寸较小的栅极，在进行第二次层间绝缘层制作时，随着载流子的扩散，氧化物半导体层的导体区变长、沟道区变窄，从而有利于提高阵列基板的开口率和分辨率。 | ||
| 搜索关键词： | 阵列 及其 制作方法 显示 面板 | ||
【主权项】：
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