[发明专利]一种简易型原子层沉积设备的沉积方法在审
| 申请号： | 202210423549.6 | 申请日： | 2022-04-21 |
| 公开（公告）号： | CN114743454A | 公开（公告）日： | 2022-07-12 |
| 发明（设计）人： | 张海飞;刘磊;唐继远;张洪国;李正磊;房岩;王浩增;徐道涵;卓永生 | 申请（专利权）人： | 江苏鹏举半导体设备技术有限公司 |
| 主分类号： | G09B25/00 | 分类号： | G09B25/00;C23C16/455;C23C16/40;C23C16/52 |
| 代理公司： | 南通云创慧泉专利代理事务所(普通合伙) 32585 | 代理人： | 邵永永 |
| 地址： | 226000 江苏省南通市开*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种简易型原子层沉积设备，包括反应腔体，反应腔体包括上盖和加热腔，加热腔底部有圆形沟槽环绕，内置加热丝，加热腔上部是载盘，上盖输气结构经由特殊设计，与气路系统连通，前驱体源瓶和惰性气体经由气路系统连接口连通，载盘下方连通有抽气系统，同时还公开了利用此简易型原子层沉积设备进行ALD反应的沉积方法；本发明的优点是：便于在科研、教学中使用，避免交叉污染，能够简易清楚了解ALD反应过程，获得均匀高品质纳米薄膜。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 简易 原子 沉积 设备 方法 | ||
【主权项】：
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