[发明专利]一种高抗拉强度铜箔及其制备方法在审
| 申请号： | 202210427872.0 | 申请日： | 2022-04-22 |
| 公开（公告）号： | CN114808046A | 公开（公告）日： | 2022-07-29 |
| 发明（设计）人： | 刘嘉斌;孙玥 | 申请（专利权）人： | 浙江大学 |
| 主分类号： | C25D1/04 | 分类号： | C25D1/04 |
| 代理公司： | 杭州宇信联合知识产权代理有限公司 33401 | 代理人： | 梁群兰 |
| 地址： | 310058 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种具有高抗拉强度铜箔，所述铜箔具有800 MPa以上的抗拉强度；所述铜箔沿生长方向的微观组织含有2类不同尺寸的大晶粒和小晶粒，且大晶粒内部含有纳米孪晶结构；大小晶粒相互包围形成拓扑排布结构，致密度大于99.99%；且所述铜箔的晶粒内含有硫掺杂原子，掺杂浓度为5~50 ppm。本发明还公开了该具有高抗拉强度铜箔的制备方法，采用电解法，电解液中使用同时含有乙烯硫脲分解产物与乙烯硫脲的添加剂。所述乙烯硫脲分解产物为通过循环电镀获取：采用初始电解液进行循环电镀，当循环量达到大于等于初始电解液量10倍时，形成所述乙烯硫脲分解产物。本制备方法利用乙烯硫脲分解产物与乙烯硫脲共存在电沉积铜箔过程中发挥协同作用提升铜箔抗拉强度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 抗拉强度 铜箔 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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