[发明专利]一种离子迁移谱中双平行栅离子门的控制方法在审

专利信息
申请号: 202210430430.1 申请日: 2022-04-22
公开(公告)号: CN116631839A 公开(公告)日: 2023-08-22
发明(设计)人: 陈创;李海洋 申请(专利权)人: 中国科学院大连化学物理研究所
主分类号: H01J49/06 分类号: H01J49/06;H01J49/40
代理公司: 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 代理人: 马驰
地址: 116023 辽宁省*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 发明公开一种离子迁移谱中双平行栅离子门的控制方法,通过调控离子门的第一栅门电极、第二栅门电极上的电压,可以在离子门控注入的过程中,一体化实现离子预富集、离子无歧视门控注入和离子团时空压缩。离子门开门之前的较短时间间隔内,于电离区内形成强度逐渐降低的非均匀直流电场对其中的离子流进行离子富集;离子门开门期间,利用离子门双平行栅之间所形成高强度注入电场的加速效应将电离区紧邻离子门区域内的离子无歧视地注入迁移区中形成离子团;最终获得兼具高灵敏度和高分辨能力的离子迁移谱图。本发明无需对离子迁移管进行特殊改造,方法简单,普适性强。
搜索关键词: 一种 离子 迁移 谱中双 平行 控制 方法
【主权项】:
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