[发明专利]一种真空共晶工艺中钎缝尺寸的控制方法在审

专利信息
申请号: 202210441128.6 申请日: 2022-04-25
公开(公告)号: CN115055772A 公开(公告)日: 2022-09-16
发明(设计)人: 潘玉华;文泽海;向伟玮;季兴桥;曹雪姣;贾斌;高明起;杜荣富;李文;许冰 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第二十九研究所
主分类号: B23K1/00 分类号: B23K1/00;B23K1/008;B23K1/20
代理公司: 成都九鼎天元知识产权代理有限公司 51214 代理人: 刘世权
地址: 610036 四川*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明公开了一种真空共晶工艺中钎缝尺寸的控制方法,该方法包括将成型的金属引线设置于共晶基板的共晶区域;将共晶钎料放置于共晶基板的共晶区域,压覆金属引线;将共晶模组放置于共晶基板的共晶区域,压覆共晶钎料;在共晶模组上放置配重块,并将共晶基板放入真空共晶炉;在预设共晶加热曲线下执行真空共晶,以使共晶钎料在真空共晶炉内溶化后,共晶模组与金属引线形成标准的钎缝。本发明通过在共晶时将引线放入共晶区域来限制钎缝的尺寸,然后通过增加原有的压力,以使钎料在共晶炉中溶化后,芯片或者模组压住引线,形成一个标准的钎缝,进而钎料在标准缝隙里润湿达到良好的共晶效果,解决共晶压力与钎料张力难平衡的问题。
搜索关键词: 一种 真空 工艺 中钎缝 尺寸 控制 方法
【主权项】:
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