[发明专利]金半接触器件的结构、制造方法及电子设备在审

专利信息
申请号: 202210454849.0 申请日: 2022-04-24
公开(公告)号: CN114899217A 公开(公告)日: 2022-08-12
发明(设计)人: 曾健忠 申请(专利权)人: 天狼芯半导体(成都)有限公司
主分类号: H01L29/06 分类号: H01L29/06
代理公司: 深圳中一联合知识产权代理有限公司 44414 代理人: 阳方玉
地址: 610000 四川省成都市高新*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 一种金半接触器件的结构、制造方法及电子设备,属于半导体技术领域,通过包括衬底、边缘环结构和金属层;边缘环结构位于衬底中;金属层覆盖衬底且显露边缘环结构;其中,边缘环结构包括n个离子掺杂阱区;n为大于1的自然数;第i离子掺杂阱区位于第i+1离子掺杂阱区中;i为小于n的正整数;由于金属层覆盖所述衬底且显露所述边缘环结构,同时,边缘环结构包括n个离子掺杂阱区;第i离子掺杂阱区位于第i+1离子掺杂阱区中;使得金属层的边缘因嵌套的离子掺杂阱区形成逐渐减弱的电场分布,提高了器件最大反向偏压和器件的可靠度。
搜索关键词: 接触 器件 结构 制造 方法 电子设备
【主权项】:
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