[发明专利]化合物六羟基氯四硼酸铯和六羟基氯四硼酸铯双折射晶体及制备方法和用途

摘要

本发明涉及一种化合物六羟基氯四硼酸铯和六羟基氯四硼酸铯双折射晶体及制备方法和用途，该化合物的分子式为Cs[B(OH)3][B3O3(OH)3]Cl，分子量为361.65，采用温和的溶剂蒸发法制成，该晶体化学式为Cs[B(OH)3][B3O3(OH)3]Cl，分子量为361.65，属于单斜晶系，空间群是P21/c，晶胞参数a=8.3917(3)Å，b=11.9993(4)Å，c=12.7815(4)Å，β=127.856(2)，V=1016.18(6)Å3，Z=4。其紫外透过截止边为180 nm，双折射率约为0.123（532 nm）。采用温和的室温溶液法或水热法生长晶体，通过本发明所述方法获得的六羟基氯四硼酸铯双折射晶体机械硬度适中，易于生长、切割、抛光加工和保存；具有较大的双折射率；在光学和通讯领域有重要应用，可用于制作偏振分束棱镜，相位延迟器件和电光调制器件等。