[发明专利]一种提升p型含氧金属化合物薄膜迁移率的方法有效
申请号: | 202210478170.5 | 申请日: | 2022-05-05 |
公开(公告)号: | CN114875380B | 公开(公告)日: | 2023-05-23 |
发明(设计)人: | 连水养;许嘉巡;赵铭杰 | 申请(专利权)人: | 厦门理工学院 |
主分类号: | C23C16/40 | 分类号: | C23C16/40;C23C16/455;C23C14/08;C23C14/35;C23C14/06;C23C14/58;C23C16/56 |
代理公司: | 厦门智慧呈睿知识产权代理事务所(普通合伙) 35222 | 代理人: | 郑拥军 |
地址: | 361024 福*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: |
本发明公开一种提升p型含氧金属化合物薄膜迁移率的方法,通过在p型含氧金属化合物薄膜中掺杂原子,所掺杂的原子的最外围轨道能和氧2p轨道形成化学键,能提高价带顶部的散度和增加价带顶的斜率,故而能提高提升p型含氧金属化合物薄膜迁移率。可以是,所掺杂的原子的最外围轨道为2s或3s轨道,或者所掺杂的原子的最外围轨道具有3d |
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搜索关键词: | 一种 提升 型含氧 金属 化合物 薄膜 迁移率 方法 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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