[发明专利]发光基板及其制备方法在审
申请号: | 202210519285.4 | 申请日: | 2022-05-12 |
公开(公告)号: | CN114744007A | 公开(公告)日: | 2022-07-12 |
发明(设计)人: | 周婷婷;张方振;牛菁;王玮;牛亚男;孙双 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/15 | 分类号: | H01L27/15;H01L21/77 |
代理公司: | 北京华夏泰和知识产权代理有限公司 11662 | 代理人: | 王卫忠 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及一种发光基板及其制备方法。发光基板包括基板,基板上间隔设置有多个发光器件;发光器件之间的间隙处设置有第一遮光结构,第一遮光结构用于遮挡发光器件向侧向发出的光;第一遮光结构与发光器件在发光器件的目标出光方向上不重叠,或者,第一遮光结构与发光器件在发光器件的目标出光方向上的重叠区域小于设定值。由于第一遮光结构设置在发光器件之间的间隙处,因此就可以遮挡发光器件向侧向发出的光,避免该部分光线照射到其他的发光器件处产生光的串扰。并且,不会遮挡或完全遮挡发光器件向目标出光方向发出的光线,改善或消除了对发光器件的光效的不利影响,从而能够提高发光基板的出光面的出光效果。 | ||
搜索关键词: | 发光 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202210519285.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:钢筋混凝土筒仓顶板模板施工方法
- 下一篇:一种配合式氢瓶模组
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的