[发明专利]三维场景渲染深度冲突改善方法、系统、介质和设备在审
| 申请号： | 202210519832.9 | 申请日： | 2022-05-12 |
| 公开（公告）号： | CN114943798A | 公开（公告）日： | 2022-08-26 |
| 发明（设计）人： | 吴俊华;李鉴;井刚;谢帅;乐世华 | 申请（专利权）人： | 北京优锘科技有限公司 |
| 主分类号： | G06T15/20 | 分类号： | G06T15/20;G06T7/50 |
| 代理公司： | 北京安度修典专利代理事务所(特殊普通合伙) 11424 | 代理人： | 杨方成;马欢萍 |
| 地址： | 100015 北京市朝*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种三维场景渲染深度冲突改善方法，该方法包括：初始化设定摄像机的目标观察点位置，初始设置渲染场景采样的点位密度范围及触发计算的时间间隔，基于点位密度范围获得屏幕像素采样点列表，并预提供预设渲染物体拾取候选集；基于屏幕像素采样点列表及渲染物体拾取候选集，以触发计算的时间间隔，将摄像机的近平面数值结合渲染场景进行动态调整，完成动态设置摄像机的近平面数值的计算，经过自动根据渲染场景进行自适应动态调整后，以改善渲染深度冲突导致的画面撕裂。本发明还涉及三维场景渲染深度冲突改善系统、介质和设备。 | ||
| 搜索关键词： | 三维 场景 渲染 深度 冲突 改善 方法 系统 介质 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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