[发明专利]一种低吸发比高发射率涂层材料及其制备工艺、以及一种涂层系统及其制备工艺

摘要

本发明涉及一种低吸发比高发射率涂层材料及其制备工艺、以及一种高发射率涂层系统及其制备工艺。所述低吸发比高发射率涂层材料为氧化镁掺杂氧化铝，其中，氧化镁的掺杂量为1～10wt.％。根据本发明提供的氧化镁掺杂含量，由此制备得到的氧化铝基高发射率涂层系统相比较纯氧化铝涂层具有更低的吸发比，根据本发明提供的掺杂方法可应用于太阳探测器迎日涂层的开发。