[发明专利]铟铁凸点微晶材料及铟铁凸点微晶压电盘制备方法在审

专利信息
申请号: 202210533636.7 申请日: 2022-05-17
公开(公告)号: CN114864805A 公开(公告)日: 2022-08-05
发明(设计)人: 林铭;林逸彬;李柏森;潘威;黄俊铭 申请(专利权)人: 林铭
主分类号: H01L41/047 分类号: H01L41/047;H01L41/113;H01L41/29;H02N2/18
代理公司: 福州智理专利代理有限公司 35208 代理人: 康永辉
地址: 350000 福建省福州市仓山*** 国省代码: 福建;35
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摘要: 发明公开了铟铁凸点微晶材料及铟铁凸点微晶压电盘制备方法,本发明的铟铁凸点微晶材料及铟铁凸点微晶压电盘制备方法,是在厚度小于4mm的工业纯铁或钢或含铁超过40%(Wt%)合金材料表面,设一含铟超过50%(Wt%)且含铁超过10%(Wt%)且含铟和铁共超过70%(Wt%)的复合材料层,在复合材料层表面设有许多个凸点微晶,每个凸点微晶高度不大于100nm、直径不大于100nm的顶部为球状或近似球状,或凸点微晶高度不大于100nm的近似椭圆、椭圆最大长度不超过200nm的顶部为球状或近似球状或近似椭圆状,凸点微晶含铟超过50%(Wt%)且含铟和铁共超过70%(Wt%),凸点微晶与复合材料层成为一体;零件表面复合材料层和基体材料成为一体,形成铟铁凸点微晶材料。
搜索关键词: 铟铁凸点微晶 材料 压电 制备 方法
【主权项】:
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