[发明专利]一种用于流动控制的等离子体合成射流涡流发生装置在审
| 申请号： | 202210541215.9 | 申请日： | 2022-05-17 |
| 公开（公告）号： | CN114856814A | 公开（公告）日： | 2022-08-05 |
| 发明（设计）人： | 刘永葆;贾宇豪;蒙泽威;贺星;陈阳 | 申请（专利权）人： | 中国人民解放军海军工程大学 |
| 主分类号： | F02C3/32 | 分类号： | F02C3/32;F02C7/00;F02C7/04 |
| 代理公司： | 北京盛询知识产权代理有限公司 11901 | 代理人： | 马文巧 |
| 地址： | 430033 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开一种用于流动控制的等离子体合成射流涡流发生装置，包括本体，本体安装于进气道内部，本体包括发生器，发生器设有三角形斜坡，三角形斜坡上设有射流孔，发生器内设有射流激励器，射流激励器与射流孔连通，射流激励器内安装有电源机构。本发明综合了等离子体合成射流激励器与涡流发生器的优点，进一步提高了主动流动控制效果，解决了进气道内部旋流畸变控制难度大的问题，显著提高进气道出口流场品质，同时能够适应不同工况，控制效果好，能够产生进气道出口截面最大的总压恢复，具有良好的工程应用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 流动 控制 等离子体 合成 射流 涡流 发生 装置 | ||
【主权项】：
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