[发明专利]一种P型硅背接触电池和制备方法在审

专利信息
申请号: 202210580755.8 申请日: 2022-05-25
公开(公告)号: CN115036381A 公开(公告)日: 2022-09-09
发明(设计)人: 王树林;曹建伟 申请(专利权)人: 浙江求是半导体设备有限公司
主分类号: H01L31/0352 分类号: H01L31/0352;H01L31/068;H01L31/18
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 311100 浙江省杭州市*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明实施例提供了一种P型硅背接触电池和制备方法,属于硅片电池制备技术领域,电池包括:Si衬底,所述Si衬底具体为P型Si衬底;所述Si衬底的反面间隔设置有若干段磷扩散层,且相邻段的磷扩散层之间留设有一空白区;第一掺杂硅层,所述第一掺杂硅层设置有若干段,若干段第一掺杂硅层逐一设置在若干段的磷扩散层上;且所述第一掺杂硅层上方的磷扩散层和Si衬底形成一PN结;第二掺杂硅层,所述第二掺杂硅层设置有若干段,若干段第二掺杂硅层设置在若干个空白区内;以及电极,所述电极设置有若干个,且若干个电极分别电性连接在第一掺杂硅层和第二掺杂硅层上;达到提高P型背接触电池转换效率的技术效果。
搜索关键词: 一种 型硅背 接触 电池 制备 方法
【主权项】:
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