[发明专利]一种P型硅背接触电池和制备方法在审
申请号: | 202210580755.8 | 申请日: | 2022-05-25 |
公开(公告)号: | CN115036381A | 公开(公告)日: | 2022-09-09 |
发明(设计)人: | 王树林;曹建伟 | 申请(专利权)人: | 浙江求是半导体设备有限公司 |
主分类号: | H01L31/0352 | 分类号: | H01L31/0352;H01L31/068;H01L31/18 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 311100 浙江省杭州市*** | 国省代码: | 浙江;33 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明实施例提供了一种P型硅背接触电池和制备方法,属于硅片电池制备技术领域,电池包括:Si衬底,所述Si衬底具体为P型Si衬底;所述Si衬底的反面间隔设置有若干段磷扩散层,且相邻段的磷扩散层之间留设有一空白区;第一掺杂硅层,所述第一掺杂硅层设置有若干段,若干段第一掺杂硅层逐一设置在若干段的磷扩散层上;且所述第一掺杂硅层上方的磷扩散层和Si衬底形成一PN结;第二掺杂硅层,所述第二掺杂硅层设置有若干段,若干段第二掺杂硅层设置在若干个空白区内;以及电极,所述电极设置有若干个,且若干个电极分别电性连接在第一掺杂硅层和第二掺杂硅层上;达到提高P型背接触电池转换效率的技术效果。 | ||
搜索关键词: | 一种 型硅背 接触 电池 制备 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江求是半导体设备有限公司,未经浙江求是半导体设备有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202210580755.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种角色选举方法以及装置
- 下一篇:一种环氧树脂涂料及制备方法
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的