[发明专利]半导体工艺设备及其上电极机构有效
| 申请号： | 202210586343.5 | 申请日： | 2022-05-27 |
| 公开（公告）号： | CN114959559B | 公开（公告）日： | 2023-10-13 |
| 发明（设计）人： | 武树波;郭冰亮;张超;杨健 | 申请（专利权）人： | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/02 | 分类号： | C23C14/02;C23C14/14;C23C14/35;H01L21/768 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 彭瑞欣;王婷 |
| 地址： | 100176 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本申请实施例提供了一种半导体工艺设备及其上电极机构。该上电极机构包括：电源装置、馈入组件及调节组件；馈入组件包括有引入杆、引入板及连接杆，引入杆的两端分别与电源装置及引入板连接，并且引入杆与引入板同轴设置；多个连接杆围绕引入杆的轴线均匀分布，并且每个连接杆的一端通过调节组件与引入板选择性连接，另一端与靶材连接；调节组件包括有多个调节块，多个调节块与多个连接杆一一对应设置，用于选择性将连接杆与引入板连接，以使引入板能通过连接杆向靶材提供功率。本申请实施例实现了对靶材接收功率的均匀性进行调节，从而使得靶材接收到的功率较为均匀，进而提高膜厚的均匀性问题。 | ||
| 搜索关键词： | 半导体 工艺设备 及其 电极 机构 | ||
【主权项】：
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