[发明专利]具有导电图案的基板及其制造方法、电子器件的制造方法、金属纳米体用保护膜在审
| 申请号： | 202210586539.4 | 申请日： | 2022-05-26 |
| 公开（公告）号： | CN115480450A | 公开（公告）日： | 2022-12-16 |
| 发明（设计）人： | 片山晃男;佐藤守正 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/038 | 分类号： | G03F7/038;G03F7/027;G03F7/004;C09D129/14;C09D133/00;C09D133/06;C09D133/10;C09D161/06;C09D167/00;C23F1/34 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 薛海蛟 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明课题在于提供一种具有通电后导电图案的尺寸稳定性优异的导电图案的基板及其制造方法、电子器件的制造方法、金属纳米体用保护膜。本发明提供包括：工序1a，在基板上形成包含金属纳米体及树脂1的导电层a；工序1b，在上述导电层a上形成包含树脂2的树脂层b；工序2a，在上述树脂层b上形成感光性树脂层c；工序3，对于上述感光性树脂层c，通过曝光及显影处理获得上述感光性树脂层的树脂图案c’；工序4，通过蚀刻去除上述导电层a中的金属纳米体，形成导电图案d；及工序5a，使上述树脂1及上述树脂2中的至少一者软化或溶胀的具有导电图案的基板的制造方法，及电子器件的制造方法、具有导电图案的基板和金属纳米体用保护膜。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 导电 图案 及其 制造 方法 电子器件 金属 纳米 体用 保护膜 | ||
【主权项】：
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