[发明专利]一种GaP表面处理的ITO结构LED的制备方法在审

专利信息
申请号: 202210590382.2 申请日: 2022-05-26
公开(公告)号: CN115000251A 公开(公告)日: 2022-09-02
发明(设计)人: 王苏杰;杨祺;潘彬;王向武 申请(专利权)人: 南昌凯迅光电股份有限公司
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00;C23C14/04;C23C14/16;C23C14/30;C23C16/04;C23C16/40;C23C28/00;H01L33/06;H01L33/12;H01L33/42
代理公司: 南昌金轩知识产权代理有限公司 36129 代理人: 杨丽
地址: 330000 江西省*** 国省代码: 江西;36
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及LED技术领域,具体涉及一种GaP表面处理的ITO结构LED的制备方法,包括以下具体步骤:生长LED外延材料;SiO2掩膜与GaP腐蚀;GaP窗口层表面处理;ITO薄膜沉积;P电极制备;N电极制备;切割,得到所需芯片。本发明制备方法通过使用氩气等离子体轰击处理减薄后的GaP材料表面,可有效降低该表面薄层的P型掺杂浓度,同时将表层刻蚀为粗糙界面,增大该位置的接触电阻,提高电流的横向扩展能力,提升出光效率。
搜索关键词: 一种 gap 表面 处理 ito 结构 led 制备 方法
【主权项】:
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